等離子噴涂技術的應用有哪些

等離子噴涂技術是二十世紀五十年代開發出來的一種外表處理工藝。等離子噴涂設備及工藝是選用等離子弧發生器(噴槍)將通入噴嘴內的氣體(常用Ar、N和H等氣體)加熱和電離，構成高溫高速等離子射流，熔化和霧化金屬或非金屬物料，并使其以高速噴射到經預處理的工件外表上構成涂層的方法。

　　等離子噴涂工藝特征：

　　熱源溫度高（17000K），適用于難熔材料的噴涂等離子射流速度大，可高達幾十至幾百米／秒，因此涂層與基體具有較高的結合強度，并且涂層較為細密噴涂過程中對基體的熱影響較小，可以對已成型的工件進行外表噴涂噴涂工藝規程安穩，操作比較簡潔，噴涂功率較高現在，等離子噴涂技術用于制備熱障涂層的陶瓷面層和金屬過渡層。按噴涂環境不同而分類的等離子噴涂有以下幾種工藝：大氣等離子噴涂(APS)，維護氣氛(氬氣)等離子噴涂(ASPS)，低壓(LPPS)或真空等離子噴涂(VPS)。

　　大氣等離子噴涂法是運用最為廣泛的常規噴涂方法，具有操作便利，出產功率高的特征，但涂層質量高并且涂層細密度和結合強度高。

　　真空等離子噴涂法因為從根本上克服了等離子射流同環境氣氛的相互作用，因此可獲得與原始噴涂材料成分一致的純潔涂層，并且等離子射流速度快(240~610m／s)，由此構成的涂層細密，結合強度與APS涂層比較較高。一般，MCrAlY粘結層選用LPPS或VPS工藝制備，而YSZ陶瓷層的制備則選用APS方法。

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